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CleanMill氬離(li)子(zi)研磨系統為電(dian)(dian)池(chi)樣(yang)(yang)(yang)品(pin)SEM表征提供高質量的(de)制(zhi)(zhi)樣(yang)(yang)(yang)方案，傳統的(de)機械研磨方式制(zhi)(zhi)備(bei)樣(yang)(yang)(yang)品(pin)斷(duan)面(mian)，斷(duan)面(mian)不可避免的(de)存在(zai)機械損傷和磨料嵌入樣(yang)(yang)(yang)品(pin)引起的(de)污(wu)染。使用氬離(li)子(zi)束切(qie)割(ge)樣(yang)(yang)(yang)品(pin)制(zhi)(zhi)備(bei)，可以制(zhi)(zhi)備(bei)出沒(mei)有機械損傷和表面(mian)污(wu)染的(de)平整斷(duan)面(mian)，非常適用于 制(zhi)(zhi)備(bei)電(dian)(dian)池(chi)材料和部件的(de)斷(duan)面(mian)樣(yang)(yang)(yang)品(pin)，從而進行掃 描電(dian)(dian)子(zi)顯微鏡(jing)結構表征分析。

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更新日期：2023-03-20

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XTrace-基于SEM高性能微區(qu)熒光光譜(pu)儀采用了Ｘ射(she)線(xian)毛細導管(guan)技(ji)術(shu)，利用該技(ji)術(shu)，即使在非常(chang)小的樣品區(qu)域也能產生很(hen)高的熒光強度。Ｘ射(she)線(xian)毛細導管(guan)將Ｘ射(she)線(xian)源的大部(bu)分射(she)線(xian)收集(ji)，并將其聚焦(jiao)成直徑(jing)35微米的一個Ｘ射(she)線(xian)點(dian)。

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更新日期：2023-03-20

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精密刻(ke)蝕(shi)鍍(du)(du)(du)膜系統PECS II 685，一款(kuan)桌(zhuo)面型寬束氬離子(zi)拋光及(ji)鍍(du)(du)(du)膜設備。對于同(tong)(tong)一個樣品，可在同(tong)(tong)一真空環(huan)境下(xia)完成拋光及(ji)鍍(du)(du)(du)膜。

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更新日期：2023-03-20

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ChromaCL2第(di)二(er)代實(shi)時彩(cai)色陰極發光(guang)(guang)成像(xiang)系統，是一款*的產品。它具有高效的光(guang)(guang)學采集(ji)和色散能(neng)力，采用(yong)陣列光(guang)(guang)電倍增管得到高增益光(guang)(guang)探測能(neng)力。通過DigitalMicrograph軟(ruan)件實(shi)時地將光(guang)(guang)子脈沖信號混合成實(shi)時彩(cai)色陰極發光(guang)(guang)圖(tu)像(xiang)。

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更新日期：2023-03-20

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Gatan原位加(jia)熱(re)(re)臺Murano 525,精悍緊湊，能(neng)方便地與(yu)大(da)多數(shu)掃描(miao)電鏡(jing)的(de)標準樣(yang)(yang)品臺接口(kou)，它(ta)包(bao)含一個絕熱(re)(re)接口(kou)，適用(yong)于二次電子像、電子背散射(she)衍射(she)（EBSD）與(yu)聚(ju)焦離(li)子束（FIB）加(jia)工。能(neng)夠對大(da)至(zhi)9mm x 4.5mm x 1.5mm大(da)小(xiao)的(de)樣(yang)(yang)品進行快速加(jia)熱(re)(re)。

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更新日期：2023-03-20

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MICROTEST 2000E系列原(yuan)位動態拉(la)伸試驗臺，可以對(dui)金屬樣(yang)品(pin)施加高達2000N的(de)拉(la)力(li)，用戶EBSD分(fen)析，或者(zhe)對(dui)一些其他材(cai)料進行常規(gui)的(de)應(ying)力(li)-應(ying)變(bian)分(fen)析和(he)SEM成(cheng)像(xiang)。試樣(yang)夾具70度(du)角度(du)傾斜(xie)，為EBSD分(fen)析提供(gong)了的(de)設(she)置(zhi)。

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更新日期：2023-03-20

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