聚焦離子束掃描電子顯微鏡（Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope,簡稱FIB-SEM）雙束系統是指同時具備聚焦離子束（FIB）和掃描電子顯微鏡（SEM）功能的系統。

系統原理：首先離子源產生離子束被聚光鏡匯聚為極細的聚焦離子束，聚焦離子束通過控制線圈控制對指定的位置進行加工刻蝕；電子源產生電子束被聚光鏡匯聚為極細的聚焦電子束，聚焦電子束通過掃描線圈對樣品進行掃描，獲得各個被加工位置的實時圖像，從而實現對加工過程的實時監控。

聚焦離子束掃描電子顯微鏡主要功能包括:

①電子束成像，用(yong)于定位樣品(pin)、獲取微(wei)觀結構和監測加工過(guo)程;

②離子束刻蝕(shi)，用于截面觀(guan)察和圖形加工;

③氣體沉積，用于圖形(xing)加工(gong)和樣品制備;

④顯微切割制備(bei)微米(mi)大小(xiao)納(na)米(mi)厚度的(de)超薄(bo)片試樣(厚度小(xiao)于(yu)(yu)＜100 nm)，用(yong)于(yu)(yu)后續的(de)TEM和同(tong)步輻射STXM等相關分析;

⑤顯微切割制備納米尺寸的針尖(jian)狀樣品，用于后續的APT分析，獲取其微量元素(su)和同位素(su)信息;

⑥綜合SEM成像、FIB切割及EDXS化學分析，對試樣進行微納尺度的三(san)維重構分析等(deng)。