掃描場發射電鏡
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- 更新(xin)日期:2023-03-20
- 產品介紹:掃描場發射電鏡:為具有環境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環境模式(ESEM)相結合,使得樣品研究得以在自然狀態下進行。
- 廠商性(xing)質:代理商
產品介紹
品牌 | FEI/賽默飛 | 價格區間 | 面議 |
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儀器種類 | 場發射 | 應用領域 | 化工,石油 |
掃描場發射電鏡簡介:
為具有(you)*環(huan)境真空功能(neng)的(de)靈(ling)活、多(duo)功能(neng)高分辨率(lv)掃描電鏡,可(ke)以將成像和分析全(quan)面性(xing)能(neng)與環(huan)境模(mo)式(ESEM)相結合,使得樣品(pin)研究得以在(zai)自然狀態(tai)下進行。
場發射(she)電(dian)(dian)子槍(FEG)確保了優(you)異(yi)的(de)(de)(de)分(fen)(fen)辨率(lv),通過不(bu)同的(de)(de)(de)探測器選項,可(ke)(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)調節不(bu)同襯(chen)度(du)信息,包括定向(xiang)背散射(she)、STEM和(he)陰極熒光信息。來自多個多個探測器和(he)探測器區分(fen)(fen)的(de)(de)(de)圖像可(ke)(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)同步采集(ji)和(he)顯(xian)示(shi),使(shi)得(de)(de)單次掃描即可(ke)(ke)(ke)獲(huo)(huo)得(de)(de)樣(yang)品信息,從(cong)而降低電(dian)(dian)子束敏感樣(yang)品的(de)(de)(de)束曝光并實現真正額動態試驗。Quattro的(de)(de)(de)三種真空(kong)模(mo)式(shi)使(shi)得(de)(de)系統(tong)具有(you)靈(ling)活(huo)性,可(ke)(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)容(rong)納(na)廣泛的(de)(de)(de)樣(yang)品類型,無論(lun)樣(yang)品導電(dian)(dian)、絕緣、潮濕或是在高溫(wen)條(tiao)件下,均可(ke)(ke)(ke)獲(huo)(huo)得(de)(de)可(ke)(ke)(ke)靠(kao)的(de)(de)(de)分(fen)(fen)析結果。Quattro*的(de)(de)(de)硬件有(you)用戶向(xiang)導支持,不(bu)僅可(ke)(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)指(zhi)導操作者,還可(ke)(ke)(ke)以(yi)(yi)(yi)直接(jie)進行交換(huan),輕松縮(suo)短(duan)結果獲(huo)(huo)取時間(jian)。
掃描場發射電鏡參數:
金屬及合金、斷口、焊點、拋光斷面、磁性及超導材料
陶瓷、復合材料、塑料
薄膜/涂層
地質樣品斷面、礦物
軟材料:聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料
顆粒、多孔材料、纖維
水合/脫水/濕潤/接觸角分析
結晶/相變
氧化/催化
材料生成
拉伸(shen)(伴隨(sui)加熱或冷卻)
發(fa)射(she)源:高穩定型肖特基場(chang)發(fa)射(she)電子槍
分辨率:
型號 | Quattro C | Quattro S |
高真空 | ||
30kV(SE) | 1.0nm | |
1kV(SE) | 3.0nm | |
低真空 | ||
30kV(SE) | 1.3nm | |
3kV(SE) | 3.0nm | |
30kV(BSE) | 2.5nm | |
環境掃描模式 | ||
30kV(SE) | 1.3nm |
放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速電壓范圍:200V ~ 30kV
探針電流范圍:1pA – 200nA,連續可調
X-Ray工作距離:10mm,EDS檢出角35°
樣(yang)(yang)品室:從左至右為340mm寬的大(da)存儲空間,樣(yang)(yang)品室可拓展接口數(shu)量(liang)12個(ge),含能(neng)譜儀(yi)接口3個(ge)(其(qi)中(zhong)2個(ge)處于180°對(dui)角位置)
樣品臺和樣品:
探測器系統:
同(tong)步檢測多達四種信號,包括(kuo)
樣品室高真空二次電子探測器ETD
低真空二次電子探測器LVD
氣體SED(GSED,用于環境掃描模式)
樣品室內IR-CCD紅外相機(觀察樣品臺高度)
可用于樣(yang)品(pin)導(dao)航的彩色光學(xue)相機Nav-Cam™
控制系統:
操作系統:64為GUI(Windows10)、鍵盤、光學鼠標
圖像顯示:24寸LCD顯示器,WUXGA 1920×1200
定制化的圖像用戶界面,可同時激活多達4個視圖
導航蒙太奇
軟件支持Undo和(he)Redo功能(neng)
特點與用途:
在自(zi)然狀態下(xia)對材料(liao)進行預案(an)為(wei)研究,具有環境真空模式(ESEM)的*高分辨率場發射(she)掃描電(dian)鏡;
縮短樣品制備時間:低真空和環境真空技術可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無荷電累積;
在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,同步獲取二次電子像和背散射電子像;
優良的分析性能,樣品倉可同時安裝3三個EDS探測器,其中2個EDS端口分開180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
針對不導電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統"實現低真空模式下的EDS和EBSD分析;
靈活、準確的優中心樣品臺,105°傾斜角度范圍,可多方位觀察樣品;
軟件直觀、簡便易用,并配置用戶向導及Undo(撤銷)功能,操作步驟減少,分析更快速;
全新創(chuang)新選項,包括可伸縮(suo)RGB陰極熒光(CL)探測器、1100℃高真空熱臺和AutoScript。
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